Ta1 Tantalum Sputtering Target para uso industrial

Ta1 Tantalum Sputtering Target para uso industrial
Ta1 Tantalum Sputtering Target para uso industrialTa1 Tantalum Sputtering Target para uso industrialTa1 Tantalum Sputtering Target para uso industrialTa1 Tantalum Sputtering Target para uso industrialTa1 Tantalum Sputtering Target para uso industrial
CategoríaBlanco de tántalo, bote de tantalio, crisol de tántalo
ÁlbumVer más grande
MarcaGETWICK 東吉
ModeloTa1. R05200
producto claveTantalum Sputtering Target
materialtántalo
pureza99.95% Min.
gradoR05200
característicasuperconductividad
aplicaciónobjetivo de pulverización
ventajaproveedor de la fábrica
salida3000 kg / mes
PuertoGuangzhou, Shanghai
forma de pagoL/C, D/A, D/P, Western Union, MoneyGram, T/T, Paypal
Tiempo de Actualización2020-11-26
Información Detallada

Ta1 Tantalum Sputtering Target

Información general:

Nombre del elemento: objetivo de suministro de tántalo 99.95%

Pureza: 99.95%

Forma: Cuadrado / redondo, según el dibujo

Tamaño disponible: Redondo: dia 25 ~ 250mm

Rectangular: longitud hasta 1500 mm

La personalización está disponible

Derretimiento al vacío

Solicitud

ampliamente utilizado en industrias de procesamiento de revestimientos

a: vidrio arquitectónico, automóvil que usa vidrio, campo de visualización gráfica.

b: campo electrónico y semiconductor.

c: decoración y campo de moldes.

Ventaja

Textura alta dura

Alto contenido de impurezas

Alta resistencia a la tracción

Buena resistencia a la corrosión



Escriba su mensaje por favor
Hoja informativa