Objetivo de tungsteno Sputter para tubo de rayos X

Objetivo de tungsteno Sputter para tubo de rayos X
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Categoríacrisol de tungsteno, barco de tungsteno, piezas mecanizadas de tungsteno, objetivo de tungsteno, disco de tungsteno
ÁlbumVer más grande
MarcaGETWICK 東吉
ModeloW1
Nombre del productoObjetivo de tungsteno Sputter para tubo de rayos X
Palabras claveBlanco de tungsteno
tamañoComo su requiremnt o dibujos
Densidad19.3g / cm3
Punto de fusion3410Dc
Muestra pagadadisponible
PaqueteCaja de madera estándar
FormaComo su requisito
Temperatura de trabajo2000 ~ 2600 Dc
Característicaresistencia a altas temperaturas
Precio por unidadUS $ 100 / piece
PuertoShanghai / Tianjin / Shenzhen
forma de pagoL/C, D/A, D/P, Western Union, MoneyGram, T/T, Paypal
Tiempo de Actualización2019-08-24
Información Detallada
Objetivo de tungsteno Sputter para tubo de rayos X

gen

Nosotros   principalmente producir, desarrollar y vender placas de tungsteno y M olybdenum, hojas, láminas, tiras y barcos, crisoles, furances de vacío y sus m bl i es subasse, blancos de pulverización, productos de transformación profunda ect, y tántalo, niobio, titanio, níquel, circonio , Chromium ect. Otros metales raros. Los productos son ampliamente utilizados en las industrias de las tierras raras, vacío furance, fibra de vidrio, cerámica industrial, petróleo químico, ect aeroespacial.    

Descripción:
1. Una forma importante de hacer que el material de película fina sea la pulverización catódica: una nueva forma de deposición física de vapor (PVD). La película delgada hecha por blanco se caracteriza por alta densidad y buena adhesividad. Como las técnicas de bombardeo magnético de magnetrón se aplican ampliamente, los objetivos de aleación y metal de alta pureza son muy necesarios. Con alto punto de fusión, elasticidad, bajo coeficiente de expansión térmica, resistividad y estabilidad térmica fina, los objetivos puros de aleación de tungsteno y tungsteno se utilizan ampliamente en circuitos integrados de semiconductores, pantallas bidimensionales, sistemas fotovoltaicos solares, tubos de rayos X e ingeniería de superficies.
2. Puede trabajar tanto con dispositivos de pulverización catódica más antiguos como con los últimos equipos de proceso, como el recubrimiento de grandes superficies para energía solar o celdas de combustible y aplicaciones de microchips.

caracteristicas:
1. El objetivo de pulverización catódica de tungsteno adopta las mejores técnicas demostradas, incluida la fluorescencia de rayos X (XRF), la espectrometría de masas de descarga luminiscente (GDMS) y el plasma acoplado inductivamente (ICP);
2. El objetivo de tungsteno de GETWICK se proporciona con alta pureza hasta 99.97%, densidad 18.8-19g / cm3, estructura organizativa homogénea y grano fino;
3. Nuestro objetivo de bombardeo tungsteno ha sido aprobado por ASTM B 760-2007 y GB 3875-2006.

Parámetros de Tungsten Sputtering Target:

Material

Estado

Dimensión máxima: Ancho × Longitud (mm)

W 99.95%

suelo

300 × 600; ≤200 × 1000

Los objetivos de pulverización de tungsteno también se producen según los requisitos de los clientes.

Paquete e inspección:
Ofrecemos hojas de composición de materiales e informes de exámenes que incluyen densidad, detección de defectos, dimensiones, etc. Nuestros productos se embalan en caja de madera contrachapada con plástico expandido. Cada pieza de blanco de pulverización de tungsteno está separada por papel a prueba de agua.

producto39053801438017CertificadoCertificadoPagoEnvíoInformación del embalajeOrden en procesoContáctenos

Paquete
1. Cartón con papel a prueba de agua y espuma protectora en el interior.
2. Caso de exportación estándar.
3. Como requisitos de los consumidores.
Pago
1. Orden de la muestra: L / C, Paypal, fideicomiso y T / T100% son aceptados.
2. Orden grande: T / T el 50%, pago completo avanzado, L / C se aceptan.
Por favor elija los términos que le resulten más convenientes. Depende de su pedido, también le recomendaremos la forma más adecuada.

 

 

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